Samsung ja té llest el seu procés de fabricació a 8 nm
Taula de continguts:
Samsung és un us líders mundials en la fabricació de xips de silici i no té intenció de tirar la tovallola, el gegant sud-coreà ja té a punt un nou procés de fabricació més refinat per millorar les prestacions de les seves xips i els de tercers que recorrin a seva fosa.
Samsung ja té a punt els 8 nm
Samsung ha revelat oficialment que el seu nou procés de fabricació a 8nm LPP (Low Power Plus) està a punt per a la producció dels primers xips, aquest nou procés ofereix fins a un 10% d'augment de rendiment sobre el procés actual de 10nm de la companyia i fins a un 10% de reducció d'àrea dels transistors.
Aquest node és un refinament de el node de producció de 10nm existent de Samsung, el que fa que aquest procés sigui en realitat 10nm +, però s'aplica un canvi de nom de cara a l'màrqueting, ja que recordem que no existeix un estàndard a l'hora de mesurar la mida dels transistors pel que cada fosa ho pot expressar de forma diferent. Això fa que els processos de fabricació de dues empreses puguin ser molt diferents tot i ser aparentment els mateixos nm.
El CEO de NVIDIA assegura que la Llei de Moore ha mort i que les GPUs reemplaçaran les CPU
Els avantatges d'aquest nou node de procés són el fet que es basa en la tecnologia existent de Samsung, el que permet a Samsung accelerar ràpidament la producció de 8nm adaptant la seva tecnologia existent de 10 nm. Samsung també ha pogut passar la qualificació amb aquest nou node tres mesos abans del previst, el que li permet a la companyia produir xips funcionals de 8nm abans del programat.
8nm serà el node final de Samsung abans del seu canvi a EUV (Extreme Ultra Violeta) amb el seu node de fabricació de 7nm, el que establirà una nova era per a la Llei de Moore, permetent als fabricants trencar algunes de les limitacions que han estat frustrant el progrés en la indústria.
font overclock3d7LPP serà la primera tecnologia de procés de semiconductors a usar una solució de litografia EUV. L'esforç col·laboratiu de Samsung i ASML va desenvolupar 250W de potència màxima de EUV, que és la fita més important per a la inserció de EUV en la producció de gran volum. El desplegament de la litografia EUV trencarà les barreres de l'escala de lleis de Moore, aplanant el camí per a les generacions de tecnologia de semiconductors de nanòmetres únics.
Intel anuncia oficialment el seu procés de fabricació a 10 nm
Intel se sent orgullosa d'anunciar el seu procés de fabricació a 10 nm que permet aglutinar dues vegades més transistors que els processos de la competència.
TSMC parla del seu procés de fabricació a 5nm finfet
TSMC ja està planificant el seu full de ruta de l'procés a 5nm, que espera tenir a punt en algun moment el 2020, totes les millores que oferirà.
Samsung posa en marxa el seu procés de fabricació a 7 nm amb EUV
Samsung ha iniciat el procés de fabricació de xips a 7 nm utilitzant la tecnologia EUV, tots els detalls de la gesta.
